EI(electronics-inc) 流(liu)量閥

EI(electronics-inc) 流(liu)量閥

EI(electronics-inc) 流(liu)量閥

產品概(gai)述

EI Electronics POT-24 MagnaValve是專(zhuan)為超精(jing)密(mi)流體(ti)管(guan)理(li)設計(ji)的(de)智(zhi)能控制閥，集(ji)成了(le)EI的(de)‌HyperMagna™多級(ji)磁感驅動(dong)系統(tong)‌與‌AI自適應控制模塊(kuai)‌，可(ke)在0.01-60 bar超寬壓(ya)力範(fan)圍(wei)內(nei)實現(xian)液(ye)體(ti)、氣體(ti)及(ji)納(na)米級(ji)混合介質(zhi)的(de)高精(jing)度(du)流量調節。該(gai)產品針對氫能儲(chu)運(yun)、生物制(zhi)藥無(wu)菌(jun)流程(cheng)、微(wei)電子(zi)制(zhi)造等(deng)對潔凈(jing)度與可靠(kao)性要(yao)求嚴苛的(de)場(chang)景，以微(wei)米級(ji)密封技(ji)術、全生命(ming)周(zhou)期智(zhi)能診(zhen)斷(duan)及(ji)多(duo)協(xie)議(yi)工業互(hu)聯能力(li)，樹(shu)立(li)流(liu)體(ti)控制新。

核(he)心技(ji)術特點

1. ‌HyperMagna™多級(ji)磁感驅動(dong)技(ji)術‌
   采用七層環(huan)形磁路陣(zhen)列(lie)設(she)計(ji)，通過軸(zhou)向磁通強(qiang)化技(ji)術實現(xian)驅(qu)動(dong)力密(mi)度提(ti)升(sheng)400%（對(dui)比傳(chuan)統電磁(ci)閥），響(xiang)應時(shi)間≤3ms。閥芯采用單(dan)晶碳(tan)化矽(gui)與類金剛石(shi)塗(tu)層(ceng)（DLC），耐受(shou)氫氟(fu)酸、超臨(lin)界(jie)CO₂等(deng)介質(zhi)，工(gong)作溫度範(fan)圍(wei)擴(kuo)展至‌-200℃（液(ye)氮(dan)環(huan)境）至350℃（高溫蒸汽(qi)）‌，機械(xie)壽(shou)命(ming)突破(po)1億次(ci)循(xun)環(huan)。

2. ‌AI自適應流(liu)體(ti)優化(hua)系統(tong)‌
   集成(cheng)多光(guang)譜傳(chuan)感器（流量、壓力、粘(zhan)度(du)、顆粒(li)計數），通過邊(bian)緣(yuan)計算(suan)芯片每(mei)秒執(zhi)行(xing)5000次(ci)實時數據(ju)分析，動(dong)態優化(hua)閥門(men)開(kai)度(du)與壓力補償(chang)參數。支(zhi)持(chi)OPC UA over TSN協議(yi)，實現(xian)與工業物聯網(wang)（IIoT）平(ping)臺(tai)的(de)微(wei)秒級(ji)同步(bu)，流(liu)量控制精(jing)度(du)達‌±0.05% FS‌（滿量程）。

3. ‌納(na)米級(ji)潔凈(jing)密封架構‌
   閥體(ti)采用電化學(xue)拋光(guang)鈦(tai)合金（ASTM B348 Grade 5），流(liu)道表面粗(cu)糙(cao)度Ra≤0.05μm，滿足ISO 1級(ji)潔凈(jing)室標準(zhun)（顆粒(li)釋放(fang)量＜1 particle/cm³）。采用雙冗余(yu)金(jin)屬波紋管(guan)密(mi)封（漏率(lv)＜1×10⁻¹² mbar·L/s），杜(du)絕介質(zhi)交(jiao)叉(cha)汙(wu)染(ran)風(feng)險，適配mRNA疫(yi)苗(miao)生產、光(guang)刻膠(jiao)輸送等(deng)超敏感場(chang)景。

應用(yong)場(chang)景

• ‌氫能源系統(tong)‌：70MPa高壓(ya)氫(qing)氣(qi)加註站(zhan)流(liu)量控制、液(ye)氫儲罐(guan)蒸發(fa)氣(qi)回收動(dong)態平(ping)衡(heng)。

• ‌生物制(zhi)藥‌：細(xi)胞(bao)治療制(zhi)劑無(wu)菌(jun)分裝、壹(yi)次(ci)性生物反(fan)應(ying)器(qi)培(pei)養基(ji)精(jing)準(zhun)供(gong)給。

• ‌半導體(ti)制造‌：極紫(zi)外(wai)光(guang)刻（EUV）設(she)備冷卻液(ye)管(guan)理(li)、晶圓清洗超(chao)純(chun)水分配。

• ‌科(ke)研設(she)施(shi)‌：聚變堆液(ye)態鋰(li)鉛合金循(xun)環(huan)控制、同步(bu)輻(fu)射(she)光(guang)源液(ye)態金屬射流調節。

性能優勢(shi)

• ‌超高(gao)壓兼容(rong)‌：60 bar連(lian)續(xu)工(gong)作(zuo)壓力(li)（峰(feng)值120 bar），支(zhi)持(chi)脈(mai)沖式高(gao)頻操作(zuo)（1000次(ci)/分鐘）。

• ‌智(zhi)能預(yu)維護(hu)‌：數字(zi)孿生系統(tong)實時比(bi)對(dui)3D磁場(chang)模型(xing)與運行(xing)數據(ju)，提前120天預(yu)測(ce)密封件老化。

• ‌能效(xiao)‌：動(dong)態功耗(hao)＜0.8W（@24VDC），待機功耗(hao)僅(jin)0.1W，較同類(lei)產品節(jie)能75%。

• ‌多(duo)協(xie)議(yi)互聯‌：原(yuan)生支(zhi)持(chi)EtherCAT、PROFINET IRT及(ji)MQTT-SN協(xie)議(yi)，無縫接入工業4.0架構。

技(ji)術參數

安(an)裝與維護(hu)

需采用無塵室安(an)裝工(gong)藝，配套EI ZeroGravity™懸浮(fu)定位夾(jia)具(ju)確保(bao)安(an)裝應(ying)力＜0.5N·m。維護(hu)時通過藍(lan)牙5.2讀取設備健康(kang)數據(ju)，支(zhi)持(chi)模塊(kuai)化(hua)更(geng)換(huan)核(he)心組(zu)件（MTTR＜8分鐘）。每(mei)3年執(zhi)行(xing)壹次(ci)原(yuan)位激(ji)光(guang)校準，EI全*服務網絡提(ti)供(gong)48小(xiao)時快(kuai)速(su)響(xiang)應支(zhi)持(chi)。

認(ren)證(zheng)與質(zhi)保(bao)

通過ISO 9001:2015、SIL 3（IEC 61508）、CE/ATEX（Zone 0）認(ren)證(zheng)，質(zhi)保(bao)期升(sheng)級(ji)至7年（含(han)AI核(he)心與磁驅模塊(kuai)）。所(suo)有(you)生產數據(ju)實時上(shang)鏈(lian)，用戶(hu)可通過EI QuantumTrace™區(qu)塊(kuai)鏈(lian)平(ping)臺(tai)追溯(su)材料(liao)批(pi)次(ci)、測試報告(gao)及(ji)維修(xiu)記(ji)錄。