EI(electronics-inc)流量(liang)閥

EI(electronics-inc)流量(liang)閥

產品概述

EI Electronics MC MagnaValve是新壹(yi)代工(gong)業級智能流量(liang)控(kong)制(zhi)閥，專為壓(ya)力、高(gao)潔(jie)凈度及超(chao)精(jing)密(mi)流體(ti)場景(jing)設計(ji)。其創新(xin)性(xing)融(rong)合(he)了EI的MagnaCore™多級磁(ci)感驅動(dong)系統與(yu)嵌入式AI控(kong)制(zhi)芯(xin)片(pian)，可在0.1-50 bar超(chao)寬(kuan)壓力範圍內穩(wen)定(ding)調節氣體(ti)、液體(ti)及納米級懸(xuan)浮(fu)介質的流量(liang)。該(gai)產品廣泛(fan)應(ying)用(yong)於(yu)半導體(ti)制(zhi)造(zao)、氫(qing)能儲(chu)運(yun)、生物(wu)醫(yi)藥(yao)等高(gao)技(ji)術(shu)領域(yu)，以納米級精(jing)度、全(quan)生命周期(qi)自(zi)診斷及(ji)多協議(yi)物聯(lian)能力，重新(xin)定義工業流體(ti)控(kong)制(zhi)標(biao)準(zhun)。

核(he)心(xin)技(ji)術(shu)特(te)點

多級磁(ci)感驅動(dong)架(jia)構（MagnaCore™）‌

采用(yong)五(wu)層軸(zhou)向磁(ci)路陣列設計(ji)，驅動力密(mi)度較傳(chuan)統(tong)電磁閥提(ti)升(sheng)3倍(bei)，響應(ying)時(shi)間≤5ms。閥芯(xin)采(cai)用(yong)碳化(hua)矽(gui)陶(tao)瓷(ci)與(yu)納米鍍層工藝(yi)，耐受氫(qing)氟(fu)酸、超純水(shui)等介質，工作溫度範圍擴(kuo)展至(zhi)-196℃（深(shen)冷(leng)）至(zhi)300℃（高(gao)溫(wen)），使用(yong)壽命突破(po)5000萬(wan)次(ci)循環。

AI動態校(xiao)準系統‌

集(ji)成多模態傳感器（流量(liang)、壓力、溫度、振動(dong)），每(mei)秒執(zhi)行2000次(ci)數據(ju)采(cai)集(ji)，通(tong)過(guo)內置TensorFlow Lite模(mo)型實時(shi)優(you)化(hua)控(kong)制(zhi)參(can)數。支(zhi)持(chi)MQTT/OPC UA協(xie)議(yi)，實現(xian)與(yu)工(gong)業4.0平(ping)臺(tai)的(de)毫秒級數據(ju)同步(bu)，流量(liang)控(kong)制(zhi)精(jing)度達±0.1% FS。

全(quan)封閉潔凈(jing)設計‌

閥體(ti)采用(yong)電(dian)化(hua)學(xue)拋光316L超低碳不(bu)銹(xiu)鋼，流道表(biao)面(mian)粗糙(cao)度Ra≤0.1μm，滿(man)足(zu)SEMI F57超純水標(biao)準(zhun)。可選(xuan)配(pei)真(zhen)空級密(mi)封（漏率＜1×10⁻⁹ mbar·L/s）與(yu)ISO 1級潔(jie)凈(jing)室裝(zhuang)配工藝，適(shi)配(pei)芯(xin)片(pian)光刻膠、疫(yi)苗原(yuan)液等超敏(min)感介質輸(shu)送(song)。

應(ying)用(yong)場(chang)景(jing)

半導體(ti)制(zhi)造(zao)‌：極(ji)紫外(wai)光刻（EUV）設備冷(leng)卻(que)劑(ji)流量(liang)控(kong)制(zhi)、晶圓(yuan)清洗超純水分(fen)配(pei)。

氫能源(yuan)系統‌：70MPa高(gao)壓(ya)氫氣管(guan)網(wang)壓(ya)力調節、液氫(qing)儲(chu)罐加(jia)註(zhu)流量(liang)管(guan)理(li)。

生物(wu)制(zhi)藥‌：mRNA疫(yi)苗微(wei)流控(kong)生產、壹次(ci)性(xing)生物(wu)反(fan)應(ying)器(qi)培(pei)養(yang)基(ji)精(jing)準(zhun)供(gong)給。

科研(yan)裝(zhuang)置‌：聚(ju)變堆(dui)超(chao)導磁體(ti)液氦(hai)循(xun)環、同步(bu)輻(fu)射光源液態金屬(shu)靶控(kong)制(zhi)。

性(xing)能優(you)勢(shi)

超(chao)高(gao)壓(ya)能力‌：50 bar連(lian)續工(gong)作壓力，峰值耐受100 bar沖(chong)擊(ji)載荷(he)。

納米級潔(jie)凈(jing)‌：通過(guo)FDA 21 CFR Part 11電子(zi)記(ji)錄認(ren)證(zheng)，顆(ke)粒(li)釋(shi)放量(liang)＜5 particles/mL（≥0.5μm）。

自(zi)主運(yun)維(wei)‌：數字孿(luan)生系統預(yu)測(ce)閥門(men)健(jian)康(kang)狀(zhuang)態，自(zi)動生成維(wei)護(hu)工單(dan)並(bing)推(tui)送備件(jian)清(qing)單。

能效‌：動(dong)態功耗＜2W（@24VDC），較同類(lei)產品節能60%。

技(ji)術(shu)參(can)數

項目參(can)數值

公稱(cheng)通(tong)徑(jing)DN6/DN10/DN15/DN20

工作壓力0.1-50 bar（標(biao)準(zhun)）/ 100 bar（定制(zhi)）

介質兼(jian)容(rong)性(xing)氣(qi)體(ti)/液體(ti)/納米漿料(liao)（粘度≤10⁶ cP）

控(kong)制(zhi)信號(hao)4-20mA/EtherCAT/Profinet IRT

泄(xie)漏等級ANSI/FCI 70-2 Class VI（金屬(shu)密(mi)封）

認(ren)證(zheng)標(biao)準(zhun)SEMI S2/S8、ASME BPE、ISO 14644-1

安裝(zhuang)與(yu)維(wei)護(hu)

需采用(yong)無(wu)應(ying)力安裝(zhuang)工(gong)藝，配(pei)套(tao)EI HyperMount™對中(zhong)夾具(ju)確(que)保法蘭(lan)平(ping)行度≤0.02mm。維(wei)護(hu)時通(tong)過(guo)NFC近場通(tong)信(xin)獲(huo)取(qu)設(she)備檔(dang)案，支(zhi)持(chi)熱插拔更換(huan)核(he)心(xin)模(mo)塊（MTTR＜15分(fen)鐘(zhong)）。每5年(nian)執(zhi)行壹次(ci)全(quan)性(xing)能校(xiao)準，EI全(quan)*服務中(zhong)心提(ti)供(gong)原(yuan)位標(biao)定(ding)服務。

認(ren)證(zheng)與(yu)質保

通過(guo)ISO 9001:2015、CE（2014/34/EU ATEX）、SIL 3（IEC 61508）認(ren)證(zheng)，質保期(qi)升(sheng)級至(zhi)5年(nian)（含AI核(he)心(xin)模(mo)塊）。所有生產數據(ju)上(shang)鏈(lian)存證(zheng)，用(yong)戶(hu)可通(tong)過(guo)EI Blockchain Portal追(zhui)溯(su)每(mei)個(ge)零部(bu)件(jian)的(de)材料(liao)批(pi)次(ci)與(yu)測(ce)試(shi)記(ji)錄。

如(ru)需獲(huo)取(qu)潔(jie)凈室安裝(zhuang)指(zhi)南(nan)或參(can)與(yu)定(ding)制(zhi)化(hua)開(kai)發項目，請(qing)登錄EI Industry 4.0 Hub或聯(lian)系專屬(shu)技(ji)術(shu)顧問(wen)。

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